原位(in situ)椭圆偏振指在样品变化的过程对其进行动态的量测,这过程如薄膜的成长,样品的蚀刻或清洁等。藉由原位技术,可使取得基本过程随时间变化之光学特性参数,如成长或蚀刻速率。原位椭圆偏振的量测,需有许多额外的考量:光点要进入处理腔室并打到样品,比起ex situ在腔室外的测量,更为不易。因此,偏振光测量仪,其机械装置可能得外加光学元件(镜子、棱镜或透镜)以调整光束,将其重新导向或聚焦。
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光束调制器通常有几种,一种是机械调制器(斩波器),可以实现光束强度简谐地调制为了随后的同步探测;另一种是电光或磁光调制器,用于光束强度(电光)或偏振态(磁光)的简谐扰动为了随后的同步探测,这种调制器一
般难以标定和维护,对温度敏感并且相当昂贵。现在还有一种光弹型调制器用于椭偏仪中。
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